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专利和集成电路布图设计的区别

更新时间:2021-05-24    浏览次数:1075次

案例:
苏州赛芯电子科技有限公司与深圳裕昇科技有限公司、户财欢、黄建东、黄赛亮侵害集成电路布图设计专有权(下文简称布图设计权)纠纷案〔最高人民法院(2019)最高法知民终490号民事判决书〕 
简介:
户财欢作为被告,貌似是在苏州赛芯上过班,最起码是和苏州赛芯有过业务合作。苏州赛芯公司拥有集成电路布图设计权;户财欢从苏州赛芯离开之后,自己开公司生产电子设备,苏州赛芯公司认为户财欢生产的电子设备侵犯了其布图设计权。
我们就用这个案例来说明专利和集成电路布图设计的三点区别。
区别1:专利权和布图设计权如何界定其保护范围?
专利文件包括两大部分:权利要求书和说明书,其中,权利要求书是用来确定专利权的保护范围的。权利要求书中一般有多个权利要求,例如,权利要求1至权利要求10。专利权人在提起诉讼的时候,可以从十个专利权中选择至少之一来进行诉讼。例如,专利权人可以选择权利要求1,当然也可以选择权利要求2。如果专利权人选择了权利要求2进行诉讼,则需要看权利要求2所包括的所有技术特征是否均在被诉侵权产品中出现,如果被诉侵权产品包括了权利要求2的所有技术特征就侵权了。
如果权利要求2的保护范围不清楚,无法界定其保护范围,则会影响权利人的诉讼。
布图设计文件包括两大部分:(1)布图设计的复制件或者图样,复制件或图样的纸件必须交,电子件可以选择交或者不交;(2)布图设计已投入商业利用的,提交含有该布图设计的集成电路样品。
这其中,电子件是包含全部信息的,可以作为侵权判断的依据。纸件的要求是应当至少放大到用该布图设计生产的集成电路的20倍以上,此时,如果纸件是清晰的,则可以使用纸件来进行判断;但是如果放大到20倍以上仍然看不清楚细节,则可以将提交的集成电路样品剖片,通过技术手段精确还原出芯片样品包含的布图设计的详细信息,提取其中的三维配置信息,确定纸件中无法识别的布图设计细节,用以确定布图设计的内容。
如果只递交了纸件,没有递交电子件也没有递交集成电路样品,纸件的不清楚会导致保护范围的不清楚,从而影响权利人的诉讼。 
区别2:专利和布局设计是否均公开?
专利的本质是:“公开换保护”,专利在获得授权之后必然是公开的,并且,如果专利在授权后被发现公开的内容不足以实施该发明,则该专利权还可以通过无效程序被无效掉。
布局设计并不是公开的:公众也可以请求查阅该布图设计的复制件或者图样的纸件。由此可见,对于上文中的电子件以及集成电路样品公众都是无法获取到的,并且,如果复印件或者纸件中有保密信息,权利人也可以要求保密。由此可见,对于布图设计中的内容,只有部分公开。这跟专利中的完全公开是不一样的。 
区别3:侵权判断是否需要被诉侵权人“接触”?
专利侵权判断就是将权利要求和被诉侵权产品进行比较,这里不需要考虑被告是不是知道这个专利的存在,这是因为专利都是公开的,既然是公开的,那就默认是所有人都知道这个专利的存在。
布局设计权本质上还是一种著作权,如果一个布局设计没有公开,另一个人独立完成了该布局设计,则该独立完成的布局设计并不侵权。这是因为著作权保护独立完成的内容,布局设计有些内容是没有公开的,对于这部分内容,如果被告是独立完成的,则不侵权。因此,对布图设计的侵权认定类似著作权侵权认定思路,不仅需要证明被诉产品落入了保护范围,还需要证明被告接触过原告的布图设计。这一点是跟专利不同的,如果被告能够证明没有接触过原告的布图设计,则被告是不侵权的。 
这三点应该能够帮助我们了解布局设计和专利的区别,这个案子还涉及到其他内容,大家感兴趣的话,可以看如下链接:
https://wenshu.court.gov.cn/website/wenshu/181107ANFZ0BXSK4/index.html?docId=e0da14b6c6f840f6ba77ac9c0123d5fb

来源:韩一星讲专利

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