专利申请，宜早不宜晚。但是，专利申请的这些雷区，你可千万别踩。

雷区一：自主研发的产品无需申请专利就能获得保护

也许你会觉得有这种想法的人很傻，可现实中就有这么傻的人。申请专利来获得专利权，专利权就是垄断权，以在先申请为原则，具有创造性、新颖性和实用性的发明创造被谁先申请，专利权就授予谁。所以说，自主研发的技术，被别人申请了专利，那么这项技术就属于申请人。即使你告申请人，依据法律你是无法追究申请人的法律责任的，这也是建议那些人不但要申请，而且要早申请自己的专利的原因。

雷区二：投入规模生产后再申请专利

不少人觉得自己的技术还没得到规模性生产运用，就没必要申请专利。这真的是一种大错特错的想法。你的发明，也许暂时只有你能掌握核心技术点。但是万一他人窃取了你的技术或者他人也发明了跟你相似或一样的技术，这时，他们申请了专利，那么这项技术就真的不专属你了，到时你后悔都没用。

雷区三：申请专利后就可以一劳永逸

一些申请人认为专利申请成功后就能一劳永逸了，从而忽视了后续的研发工作。首先，专利是有时间期限的，到期了就不受国家法律保护了，人人可用。所以，每申请一个专利就要继续它的技术研发，每次技术突破都要进行专利申请。这样，自己的核心技术就可以不断被保护，即使前期的专利到期，都过去一二十年了，新技术专利完全适应当下社会，原来的技术可能早就被淘汰了。

雷区四：一项成果只能申请一类专利

同一技术可以申请多种专利。因为三种类型的专利保护侧重点不同，发明专利主要针对创造性很强的专利，产品工艺方法或结构等；实用新型专利主要保护产品的形状、构造或者其结合所提出的适于实用的新的技术方案；外观专利主要保护产品的形状、图案或者其结合以及色彩与形状、图案的结合所作出的富有美感并适于工业应用的新设计。同一产品，只要申请点不同，完全可以申请多个专利。申请成功后，也会从不同角度获得授权保护。

雷区五：先发表成果再申请专利

一些发明人取得研究成果后急于发表文章或成果鉴定，而没有想到先申请专利保护。发表文章或成果鉴定不可避免地要公开技术内容，使专利申请失去新颖性而得不到保护，更容易被他人抄袭并进行申请，得不偿失。

雷区六：申请专利没提前进行检索

一些申请人提交的专利申请文件都没有做查新检索，对技术方案的新颖性不确定，根本不知道其技术方案有没有公开过或公开使用过。据不完全统计，各国因未查阅专利文献使研究课题失去价值，每年造成的损失数以十亿计，间接损失就更多了，我国在“七五”期间，大众企业的近万个课题，约有三分之二都是重复研究。所以，为避免一切资源的浪费，专利检索是申请专利时必不可少的环节，也是至关重要的一步。

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